Cat-CVD技術(shù)現(xiàn)狀、研究歷程及產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用現(xiàn)狀
為什么熱絲CVD（HoFCVD）可以實(shí)現(xiàn)低溫（室溫-200℃）薄膜的制備？
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